一种集成RC吸收器的低EMI分离栅VDMOS

作者:王玲; 成建兵; 陈明; 张才荣; 邓志豪
来源:微电子学, 2020, 50(05): 720-725.
DOI:10.13911/j.cnki.1004-3365.190652

摘要

为满足高速、高集成度和低EMI的要求,提出了一种分离栅VDMOS器件。通过在JFET区集成梳状MOS电容、漂移区电阻,构成内部集成RC吸收器,减小了器件关断过程中漏端电压斜率dVds/dt和电流斜率dId/dt。仿真结果表明,相比于常规VDMOS,该VDMOS的漏端过冲电压从535 V降低到283 V,抖动频率从42 MHz降低到33 MHz,抖动持续时间从65 ns缩短到30 ns。