用于极紫外光刻技术的光刻胶材料研究进展

作者：苑景润; 张萍萍; 石建兵^*; 杨高岭; 蔡政旭; 佟斌; 钟海政; 董宇平^*

来源：高分子通报, 2022, (12): 11-25.

DOI：10.14028/j.cnki.1003-3726.2022.12.002

• 光刻胶
• 极紫外光刻
• 集成电路

光刻是芯片制造的核心步骤，光刻机与光刻胶在光刻过程中是相互依存、缺一不可的。然而，作为与光刻机同等重要的光刻胶得到的关注较少。一方面是因为鲜有新闻媒体报道光刻胶，民众看到的大部分是与光刻机相关的内容，另一方面是因为国内从事光刻胶相关产业研发的公司较少。目前，国内中低端的印刷电路板用光刻胶已经基本国产化，而用于芯片制造的半导体用光刻胶几乎完全依赖进口。摆脱国外对芯片制造行业的垄断，高端光刻胶国产化也势在必行。目前，最高端的半导体芯片制造使用的是极紫外光源，使用的也是对应的极紫外光刻胶。本文主要聚焦最新极紫外光刻技术中的光刻胶材料研究现状，分别从有机材料以及有机无机杂化材料两个方面进行了归纳总结，希望能为国内新型光刻胶的研发与产业发展提供有意义的参考。

• 单位
  北京理工大学; 材料学院