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摘要
以微弧氧化电压和氧化时间为变化参量,考察了不同工艺参数下TC4合金表面涂层的厚度、表面粗糙度、孔隙率和平均孔径的变化规律,得到了TC4钛合金适宜的微弧氧化工艺,并探讨了表面涂层的沉积长大机理。结果表明,TC4钛合金涂层厚度在电压为450 V时达到最大值36.2μm,而表面粗糙度在电压为500 V时取得最大值3.3μm。涂层表面的孔隙率和平均孔径随着电压的增加而呈现逐渐增加的趋势。随着微弧氧化时间的增加,钛合金表面涂层厚度和表面粗糙度都呈现出逐渐增加的趋势。在微弧氧化前30 min内,钛合金涂层的表面孔隙率的增长速度较快,而当氧化时间超过30 min后,涂层表面孔隙率增长速度变缓,而平均孔径仍然以较快的速度增加。
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单位西南政法大学; 材料学院; 重庆大学; 重庆师范大学涉外商贸学院
