含硅基、芴基的空穴材料制备与结构表征

作者：杨杰; 吕宏飞; 白雪峰; 吴绵园; 梅立鑫; 刘洋

来源：化学与粘合, 2019, 41(04): 282-284.

• 空穴材料
• 三苯基氯硅烷
• HTFSi

以三苯基氯硅烷、对溴碘苯、对氯苯硼酸、N-(4-联苯基)-9,9-二甲基-2-氨基芴等为原料通过低温加成、Suzuki偶联及乌尔曼反应合成了含有硅、芴结构的空穴材料。在乌尔曼反应中,通过对Pd催化剂用量的考察,确定了乌尔曼反应催化剂的最低用量为千分之一当量;目标化合物通过热性质分析,确定目标化合物热分解温度为436℃;通过紫外-可见光谱分析,确定目标化合物紫外最大吸收波长为361nm,根据其最大吸收波长(361nm),由光学带隙能公式,得出目标化合物的光学带隙为3.45e V。

• 单位
  黑龙江省科学院石油化学研究院