闪耀光栅制备工艺与结构保真性研究

作者：孙国良; 王海容; 高鲜妮; 蒋庄德

来源：压电与声光, 2011, (04): 536-539.

• 热压印
• 闪耀光栅
• 制备工艺
• 聚甲基丙烯酸甲脂
• 结构保真性 hot-embossing lithography
• flash grating
• fabrication process
• PMMA
• structural fidelity

针对气体检测中分光应用的闪耀光栅,该文在硅片上制备聚甲基丙烯酸甲脂(PMMA)薄膜,采用热压印及后续工艺制备了硅基的聚甲基丙烯酸甲脂闪耀光栅,通过实验分析研究了复制闪耀光栅的保真特性。研究表明,通过聚甲基丙烯酸甲脂制备、热压印及后续工艺可得到具有高保真性的微闪耀光栅,而这种方法所获得的闪耀光栅与传统方法加工的闪耀光栅相比,在效率、成本方面均具有较明显的优势。

• 单位
  西安交通大学; 西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室