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摘要
针对微通道制氢反应器的微槽底部光整加工难题，开展超声振动辅助磁性复合流体(UMCF)抛光工艺研究。根据表面接触理论分析微槽底部气膜对磁性复合流体(MCF)抛光的影响，引入超声振动改善MCF抛光微槽底部的表面质量；通过试验探究UMCF抛光对微槽底部的抛光效果；研究不同参数下MCF抛光和UMCF抛光对微槽的表面形貌、表面粗糙度和去除率的变化规律，获得最佳的抛光参数。研究结果表明：当羰基铁粉粒径为48μm，抛光时间为5 min，抛光轮转速为500 r/min，抛光间隙为2 mm，振幅为5μm时抛光效果最佳，微槽顶部表面粗糙度Ra达到0.217μm；槽底表面粗糙度Ra达到0.403μm，去除率为4.74 mg/min。
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