Watts型镀钴体系电沉积工艺优化

作者：卓健飞; 何雨波; 汪镇涛; 谢新; 刘亚雄; ***; 王帅星; 杜楠

来源：电镀与精饰, 2023, 45(03): 52-59.

DOI：10.3969/j.issn.1001-3849.2023.03.008

• 钴
• 电沉积
• Watts型
• 工艺参数
• 镀层硬度

针对Watts型镀钴工艺，系统研究了Co2+/H3BO3摩尔比、表面活性剂、pH、温度、电流密度等参数对镀层沉积速度、硬度及微观结构的影响规律，获得了较佳的Watts型镀钴工艺方案。结果表明：适当增加Co2+含量可以加快镀层沉积速度，但过高Co盐会使阴极极化度减小、镀层结晶粗大；Co2+/H3BO3摩尔比在1.5时，Co2+的沉积电位较负、结晶更为细致。电流密度对镀层沉积速度影响最大，溶液pH值则显著影响镀层显微硬度；提高电流密度，镀层沉积加快，但镀层容易粗糙，电流密度可选择4 A/dm2；升高镀液pH值有助于获得细致镀层，但pH>5后镀液易出现沉淀；温度在40℃时镀层沉积速度和硬度均较佳。在优化的Watts型镀钴体系下所得镀层呈灰白色，晶粒呈棱片状，表面平整光滑，镀层硬度为320 HV，沉积速度为22μm/h。GH4169合金表面施镀60μm厚的钴镀层，可以显著改善其耐磨性。

• 单位
  南昌航空大学; 中国航发长江动力有限公司