一种硅单晶研磨剂及其制备方法与应用

作者：胡剑峰; 张思行; 瞿金清

来源：2021-10-28, 中国, ZL202111264157.1.

本发明涉及研磨抛光技术领域,提供了一种硅单晶研磨剂的制备方法及应用,所述硅单晶研磨剂按照质量份数含β-SiC微粉8～12份、CBN微粉1～5份、六方氮化硼微粉1～3份、聚丙烯酰胺3～5份、葡萄糖酸钠4～6份、聚乙二醇4～6份、四甲基氢氧化铵4～6份、水性聚酯润滑剂2～4份、烷基酚聚氧乙烯醚型季铵盐表面活性剂6～10份；pH值调节剂；水35～45份。本申请提供的高效硅单晶研磨剂较之传统金刚石、二氧化硅、碳化硅等抛光剂制备简单,成本相对低廉,具有高稳定性和悬浮性,使抛光后的单晶硅片获得良好的磨抛精度、磨抛效率。研磨剂废液回收方案符合资源节约、循环利用的绿色化学理念,具有极强的实用性与可操作性。

• 单位
  华南理工大学