高折射率可紫外光固化聚硅氧烷的合成及应用

作者：赵志航; 孙翀; 刘吉文; 曹新宇^*

来源：化工科技, 2021, 29(04): 6-15.

DOI：10.16664/j.cnki.issn1008-0511.2021.04.002

• 聚硅氧烷
• 折射率
• 紫外固化
• 发光二极管封装
• 耐硫化

聚硅氧烷材料具有高透明性、热稳定性好、耐冷热冲击性能以及低吸湿性和低表面张力等优良性能,在光电子器件、医疗、航天等领域具有广泛应用。以二苯基硅二醇(DPSD)和3-(甲基丙烯酰氧基)丙基甲基二甲氧基硅烷(MPDMS)为原料,合成了一种可紫外(UV)光固化的低聚硅氧烷(MD-DPS),具有较高的折射率[n=1.539(633 nm)]和低挥发性,可作为发光二极管(LED)封装材料,其固化产物具备优良的耐硫化特性,在硫蒸气下处理4 h后,其光输出效率(LEE)高于商用树脂OE-6630样品40.5%。

• 单位
  青岛科技大学; 中国科学院化学研究所