化学气相沉积TaC涂层的微观形貌及晶粒择优生长

作者：陈招科; 熊翔; 李国栋; 肖鹏; 张红波; 王雅雷; 黄伯云

来源：中国有色金属学报, 2008, (08): 1377-1382.

DOI：10.19476/j.ysxb.1004.0609.2008.08.002

• TaC涂层
• 化学气相沉积
• 择优取向
• 微观形貌 TaC coatings
• chemical vapor deposition
• preferential growth
• surface morphology

利用TaCl5-Ar-C3H6体系,采用X射线衍射技术和扫描电镜研究不同温度下化学气相沉积TaC涂层微观形貌及晶粒择优生长。结果表明:在800~1200℃时,随沉积温度升高,TaC颗粒从圆球形逐渐转变为多角形以及金字塔形多面体,而其晶体择优取向依次从无明显择优取向向<220>和<200>转变;利用生长参数α和VANDERDRIFT,MEAKIN的纳米级晶粒选择生长模型可较好地解释不同形貌的生长机制。当α=3时,薄膜会优先生长成<200>择优取向的金字塔晶粒;当α=1.5时,则容易生长成<220>取向的多角形晶粒。

• 单位
  中南大学; 粉末冶金国家重点实验室