磁控溅射功率对WOx薄膜结构和光催化活性的影响

作者：李渊; 赵青南^*; 张泽华; 刘翔; 曾瑧; 董玉红

来源：硅酸盐通报, 2019, 38(02): 512-529.

DOI：10.16552/j.cnki.issn1001-1625.2019.02.036

• WOx薄膜
• 射频磁控溅射功率
• 光催化
• 亲水性

采用射频磁控溅射法在非加热载玻片上制备WOx薄膜。通过X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)、台阶仪、UV-Vis-NIR3600型紫外可见分光光度计和接触角计,研究不同溅射功率下薄膜的物相结构、表面形貌、元素价态、膜厚、光学性能、光催化和亲水性能。结果表明,随着溅射功率增加,薄膜的光学带隙逐渐减小,薄膜光催化活性与亲水性均提高。180 W溅射功率沉积的薄膜放置在亚甲基蓝溶液里,然后用紫外灯照射210 min,亚甲基蓝降解率达到97%; WOx薄膜在紫外灯下照射120 min时,水接触角达到12. 2°,停止照射之后放置在可见光下260 min,水接触角达到19. 1°。

• 单位
  江苏秀强玻璃工艺股份有限公司; 武汉理工大学; 硅酸盐建筑材料国家重点实验室