磁过滤等离子体制备TiN薄膜中沉积条件对薄膜织构的影响

作者：张玉娟; 吴志国; 张伟伟; 李鑫; 阎鹏勋; 刘维民; 薛群基

来源：中国有色金属学报, 2004, (08): 1264-1268.

DOI：10.19476/j.ysxb.1004.0609.2004.08.002

• 氮化钛
• 磁过滤等离子体
• 薄膜织构 TiN
• filtered cathodic arc plasma
• film texture

在室温条件下,利用自行设计的平面"S"形磁过滤等离子体设备,在(111)面单晶硅上制备TiN薄膜,通过改变基底偏压和反应气体成分,即通过改变氮气和氩气的气体流量来改变沉积离子的能量和密度,从离子轰击的角度研究了沉积条件对TiN薄膜织构的影响。对薄膜的表面形貌进行观察,用(θ～2θ)和1.5°掠入射2种X射线衍射方法对薄膜晶体结构和晶面取向进行了分析,对薄膜进行了电子衍射研究。结果显示磁过滤等离子制备的TiN薄膜表面平整光滑,颗粒尺寸为20～70nm,且基底偏压和氩气流量的增大促使薄膜发生(111)面的择优取向,且(111)晶面与膜表面平行,而在高氩气流量的情况下,(200)和(220)面在薄膜...

• 单位
  固体润滑国家重点实验室; 中国科学院兰州化学物理研究所; 兰州大学