不同邻面抛光方法对牙釉质表面粗糙度及表面形貌的影响

作者：隋磊; 王宁; 周金阔

来源：口腔医学研究, 2011, (10): 873-876.

DOI：10.13701/j.cnki.kqyxyj.2011.10.023

• 牙釉质
• 粗糙度
• 表面形貌
• 抛光 Enamel Roughness Surface topography Polishing

目的:评价4种邻面抛光方法对邻面釉质表面粗糙度及显微形貌的影响,为邻面抛光方法的选择提供依据。方法:选择21颗离体牙前磨牙,沿颊舌面中线纵剖后获得邻面釉质试件42枚,再用自凝塑料包埋,暴露邻面釉质,用浮石粉抛光,并超声清洗。将42个试样均分为6组,分别作如下处理:A组空白对照,不做处理;B组:阴性对照,采用标准金刚砂车针切磨触点及其周围釉质,切磨后不抛光;其余4组为实验组,经标准金刚砂车针切磨后分别采用以下方法抛光:C组:极细粒度金刚砂车针抛光;D组:裂钻抛光;E组:矽粒子抛光;F组:彩虹抛光条抛光。之后用粗糙度仪测定釉面粗糙度,并进行扫描电镜观察。结果:标准金刚砂车针切磨后粗糙度大幅度增加(...

• 单位
  天津医科大学口腔医院