香豆素类光敏基团对脱氧核苷5’羟基的选择性保护

作者：董连强; 马星光; 孙亚伟^*

来源：合成化学, 2023, 1-12.

DOI：10.15952/j.cnki.cjsc.1005-1511.22171

• 光可降解
• 香豆素
• 核苷
• 可见光响应
• 光敏单元合成
• DNA合成

以香豆素类化合物作为光可降解保护基，探究了香豆素类化合物对脱氧核苷中5’位羟基的保护和脱保护性能，为在传统核酸合成中使用光脱保护替代酸脱保护做了前期工作。选择可在紫外及蓝光波段区间进行光化学反应的7-二乙胺基-4-羟甲基香豆素类化合物作为保护基团，并以碳酸酯的形式连接在N-4-乙酰基脱氧胞苷的5’羟基上，考察该化合物在紫外和蓝光光照下的光化学性质，为构建光调节DNA合成进行前期研究并奠定良好基础。

• 单位
  中国石油大学（华东）; 化学化工学院