MoS_x掺杂DLC薄膜的摩擦磨损行为Ⅱ:速度的影响

作者：赵飞; 逄显娟; 杜三明; 刘敬超; 牛永平; 李红轩; 张永振

来源：摩擦学学报, 2012, 32(05): 524-530.

DOI：10.16078/j.tribology.2012.05.007

• DLC膜
• 掺杂
• 摩擦磨损
• 速度

采用RF-PECVD与磁控溅射复合技术制备了MoSx掺杂的DLC(a-C:H:Mo:S)薄膜,并对其组成、表面形貌、纳米硬度及热稳定性进行了分析.在QG-700摩擦试验机上考察了其在不同滑动速度下的摩擦行为.通过对摩擦表面的光学显微观察、扫描电镜(SEM)观察及能谱(EDS)分析,简单探讨了其摩擦磨损机理.结果表明:随着速度的增加,a-C:H:Mo:S/Si3N4体系的摩擦系数先升高后降低,而磨损率则表现出相反的变化趋势.分析认为摩擦系数的升高与高湿度下薄膜表面的氧化反应有关,而降低则主要是由于石墨化所致.

• 单位
  中国科学院兰州化学物理研究所; 固体润滑国家重点实验室; 材料科学与工程学院; 河南科技大学