TFT-LCD产业中PVX OPEN不良改善研究

作者：王新伟; 王宁; 陈伟涛; 李云娜; 汪宗源; 周贺

来源：电子世界, 2021, (05): 73-79.

DOI：10.19353/j.cnki.dzsj.2021.05.034

<正>通过对TFT-LCD制造中PHOTO工艺PVX OPEN不良产生机理的研究,提出改善PVX OPEN不良的方法。分析表明PVX OPEN不良主要成因为PR胶涂布前细菌粘附在玻璃基板上,曝光显影后造成PR胶破洞,PVX刻蚀工序完成后形成对应位置PVX OPEN;通过改善生产气流及定期清理细菌等措施,PVX OPEN发生率由最初的6%以上降低到0.5%以下,且改善周期可持续2个月以上。随着薄膜晶体管-液晶显示器(TFT-LCD)发展,