THGEM探测器化学抛光及其工作气体优化

作者:谢文锦; 赵子喻; 覃潇平; 刘熙文; 黄雪峰; 黄博; 封焕波; 刘倩; 刘宏邦
来源:核电子学与探测技术, 2019, 39(03): 297-300.

摘要

采用新的化学抛光方法处理THGEM膜,在不同的气体成分和比例下对THGEM膜的增益和能量分辨进行研究测量。结果表明,以Ar/C4H10为工作气体的THGEM探测器所需工作电压较低、增益高、能量分辨相对较好。在Ar/C4H10(95%/5%)的气体条件下,THGEM的增益可达7×103。