ZnO薄膜的制备方法、性质和应用

作者：王光伟; 张建民; 郑宏兴; 杨斐

来源：真空, 2008, (05): 54-61.

• ZnO薄膜
• 制备工艺
• 光电特性
• 光电器件 ZnO thin film
• preparation process
• photoelectric properties
• optoelectronic device

介绍了宽禁带半导体ZnO薄膜的制备工艺、主要性质和器件应用等几方面内容。ZnO薄膜的制备方法大致分为物理法和化学法。前者主要包括溅射、脉冲激光沉积和分子束外延等;后者则涵盖化学气相沉积、喷雾热解和溶胶-凝胶法等。从晶体结构、光学及电学等角度概述了ZnO薄膜的主要性质。与这些性质相联系的器件应用有太阳能电池、发光器件和紫外探测器等。对器件应用领域中存在的一些问题及其解决思路作了探讨。