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摘要
指出了光催化氧化技术凭借操作简单、降解彻底、无毒高效、无二次污染、材料可重复使用等特点,已成为降解印染等高浓度有机废水的重要手段。介绍了印染废水的特点及研究现状,提出了通过负载、改性(贵金属掺杂、稀土金属掺杂、过渡金属掺杂、非金属掺杂、有机改性、复合半导体修饰)、光敏化等措施来提高材料的光催化性能。探究了粒径、晶型、光源、电解质、底物初始浓度、pH值、反应时间、外加氧化剂、物理场辅助等因素对光催化过程的影响,总结了光催化技术处理有机废水的研究方向,以实现工业化应用所需突破的技术瓶颈。
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