研究了高纯氧化镍粉末制备工艺技术,重点讨论反应温度、时间、p H等对Ni O产品质量的影响,并确定了最佳制备工艺条件。结果表明,最佳条件下制得的Ni O产品Ni含量可达78.0%;SEM分析结果表明产品呈立方形,相关指标符合电子工业用氧化镍粉显像管玻壳用氧化镍粉末的要求;XRD分析结果表明,产品中只存在单一的Ni O相。
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