Ni-Al-V合金DO_(22)相间有序畴界面的微观相场模拟

作者：张明义; 王永欣; 陈铮; 董卫平; 来庆波; 张利鹏

来源：稀有金属材料与工程, 2009, (06): 962-966.

• 有序界面
• 成分偏聚
• DO22(Ni3V)相
• 微观相场
• Ni-Al-V合金 ordered domain interface
• composition segregation
• DO22 (Ni3V) phases
• microscopic phase-field
• Ni-Al-V alloy

利用微观相场动力学模型模拟Ni-Al-V合金沉淀过程中DO22(Ni3V)相沿[100]和[001]方向形成的有序畴界面,对界面结构及其界面处合金元素的成分进行了研究。结果表明:DO22相沿[100]和[001]方向形成3种稳定界面,且都不可以迁移;界面性质与界面结构有关,(002)//(100)界面处易析出L12相,主要存在于沉淀早期;(002)//(100)·?[100]界面在沉淀后期易形成一种过渡界面;{110}孪晶界面则是三类界面中相对常见和稳定的界面;合金元素在不同的界面处有不同的偏聚和贫化倾向,在所有的界面处V原子贫化而Ni原子偏聚,Al原子在(002)//(100)·?[100]...

• 单位
  西北工业大学; 凝固技术国家重点实验室