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摘要
采用微观相场法,利用Khachaturyan所给原子间相互作用势与长程序参数关系方程,计算出Ni0.75AlxV0.25-x合金L10、L12和DO22相第一近邻原子间相互作用势,并用计算的原子间相互作用势模拟了Ni0.75AlxV0.25-x合金沉淀过程以及最终形貌。计算结果表明,L10、L12和DO22相第一近邻原子间相互作用势随温度增大而增大,随浓度增大而增大,且计算得到的随温度和浓度变化的原子间相互作用势与之前的实验值符合较好。计算的原子间相互作用势的模拟结果能依次得到预析出相L10、稳定相L12和第二相DO22,且合金沉淀形貌与实验结果吻合。相场法反演原子间相互作用势,拓宽了相场法在合金设计中的应用范围。
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