大偏角半导体级激光器用砷化镓晶片清洗方法

作者：刘汉保^*; 杨春柳; 吕欣泽; 鲁闻华; 李有云; 杨杰; 普世坤

来源：云南化工, 2022, 49(10): 80-83.

• 大偏角半导体激光器
• 砷化镓晶片
• 缺陷点
• 酸性清洗液

采用常规的碱性清洗液清洗大偏角半导体级激光器用砷化镓晶片，外延后会出现几万颗缺陷点。清洗完成后的晶片用X射线光电子能谱(XPS)分析，发现其氧化层中氧化镓的相对含量较大，晶片表面氧化物含量相对较少。针对该问题提出了解决办法，即在普通碱性清洗液之后，通过添加酸性清洗液来增加氧化层的厚度，从而调整氧化镓的含量，最终达到减少外延后异常点的目的。

• 单位
  云南大学; 云南鑫耀半导体材料有限公司