等离子体技术对N,N-二甲基甲酰胺的去除研究

作者：石林; 陈作雁; 郭晋; 安兴才^*

来源：水处理技术, 2021, 47(08): 75-80.

DOI：10.16796/j.cnki.1000-3770.2021.08.014

• 二甲基甲酰胺
• 介质阻挡放电
• 等离子体
• 去除

采用一种气液两相介质阻挡放电等离子体技术对二甲基甲酰胺(DMF)进行处理,并研究了优化工作条件。结果表明,初始DMF含量、电导率和pH对DMF的处理效果影响比循环流量和气流量大。在实验装置工作电压为14kV、频率为20 kHz下,质量浓度213 mg/L的DMF水溶液经60 min的处理,DMF的降解率和TOC去除率分别为29.8%和4.27%,可生化性没有提高。DMF去除的主要机理是以HO·和O2-·为主的活性物质的氧化作用,且O2-·的贡献更大。

• 单位
  兰州交通大学; 甘肃自然能源研究所