HADS产品DCS不良PECVD工艺改善研究

作者：杨蕾; 金哲山; 刘晓婷; 胡毓龙; 李素哲; 郭文杰

来源：电子世界, 2019, (15): 22-23.

DOI：10.19353/j.cnki.dzsj.2019.15.007

• DCS
• 镀膜工艺
• PECVD
• 工艺改善

<正>随着HADS产品需求的增加,大批量生产中DCS不良问题极大影响了产品良率。HADS产品产生DCS线不良的主要原因为PVX镀膜及曝光工艺中,PVX膜层Particles及PVX Open导致Data线与Com电极导通。本文针对PVX PT导致的DCS不良,从PECVD PVX镀膜前清洗工艺和PVX镀膜方式来改善DCS。结论表明,PVX清洗单元安装PVA上毛刷及增加HPMJ压力至110bar可使DCS中PVX PT占比降低12.3%;PVX分两次镀膜方式可使DCS下降40%。

• 单位
  北京京东方显示技术有限公司