退火对N掺杂ZnO薄膜的结构和光学性质的影响

作者：盛习福; 杨燕玲

来源：科技创新与应用, 2018, (34): 30-31.

• ZnO:N薄膜
• 退火
• Zni缺陷

采用磁控溅射法在石英衬底上制备N掺杂ZnO薄膜(ZnO:N),随后进行了退火处理,研究了退火温度对ZnO:N薄膜结构和光学性质的影响。结果表明:所有ZnO:N薄膜均为纤锌矿结构;退火处理能改善薄膜的结晶质量,且能有效调控ZnO:N薄膜中间隙锌缺陷浓度,进而影响薄膜的光学带隙。

• 单位
  电子工程学院; 重庆师范大学