纳米SiO2表面羟基数测定的研究进展

作者:程云龙; 赵明伟*; 高明伟; 闫若勤; 郭旭
来源:应用化工, 2022, 51(09): 2698-2703.
DOI:10.16581/j.cnki.issn1671-3206.2022.09.017

摘要

综述了纳米SiO2颗粒表面羟基数量测定的两种常用方法:物理法和化学法,并对以往学者进行纳米SiO2表面羟基数的测定以及对当前研究进展进行整理分析,总结了各方法的优势、不足及未来的发展趋势。