摘要

通过化学气相沉积方法,在云母衬底上制备高质量的Bi2Se3纳米片.采用湿法转移技术,将纳米片转移到SiO2衬底上.用光刻技术制备基于单个Bi2Se3纳米片的晶体管,并施加底栅电压,对Bi2Se3纳米片晶体管进行有效调控.研究表明:当Bi2Se3纳米片与电极之间形成欧姆接触时,底栅的调控效果较好;而当Bi2Se3纳米片与电极之间形成肖特基接触时,底栅的调控效果较差.