A/B位离子掺杂BiFeO3纳米薄膜的微结构与铁电性能(英文)

作者：韩亚洁; 钱进; 王建荣; 林秀娟; 杨长红^*; 黄世峰

来源：硅酸盐学报, 2021, 49(03): 511-518.

DOI：10.14062/j.issn.0454-5648.20200538

• 薄膜
• 铁酸铋
• 离子掺杂
• 微结构
• 铁电性

采用化学溶液法结合层层旋涂退火工艺,在掺氟氧化锡导电玻璃基片上制备了BiFe0.95Mn0.05O3和Bi0.9Nd0.1FeO3纳米晶铁电薄膜,并分析比较了其微结构和铁电性能。结果表明:2组分样品均为单相多晶钙钛矿结构,晶粒细小均匀,表面平整,结构致密。两薄膜均获得了饱和电滞回线,且BiFe0.95Mn0.05O3薄膜具有向上的择优取向极化和更优异的铁电性能,其剩余极化强度(Pr)达60mC·cm–2,在1～50 k Hz频率范围与25～200℃温度区间内铁电极化响应稳定,保持时间长达1′103 s工作与反复极化翻转高达1′109次表现出优异的电荷保持力和抗疲劳稳定性。

• 单位
  济南大学