SiO2-PWA/PVDF杂化阳离子交换膜的制备及性能研究

作者：张亚涛; 王三反^*; 周键; 张少博

来源：膜科学与技术, 2018, 38(05): 62-68.

DOI：10.16159/j.cnki.issn1007-8924.2018.05.009

• 膜法钴电积
• SiO2-PWA/PVDF杂化膜
• 氯离子阻挡性能
• 耐酸、耐氧化性能
• 氯离子泄漏率

膜法钴电积工艺中使用的阳离子交换膜需要有很高的氯离子阻挡性能和耐酸、耐氧化性能,针对这一问题,采用共混热压法制备出了二氧化硅固定磷钨酸的聚偏氟乙烯(SiO2-PWA/PVDF)杂化阳离子交换膜.以电解时膜的氯离子泄漏率为评价指标,研究了膜的氯离子阻挡性能和耐酸、耐氧化性能,并使用SEM,FTIR对膜的微观形貌和功能基团进行表征.结果表明,在TEOS与PWA的摩尔比为5∶1,SiO2-PWA添加质量分数为20%,热压温度为180℃的条件下,制备出的杂化阳离子交换膜性能最佳,氯离子泄漏率为7.5%,耐酸、耐氧化性能相对较好,具有应用于膜法钴电积工艺的潜力.

• 单位
  兰州交通大学