退火温度对铝钕薄膜性能的影响

作者：张汉焱; 吕岳敏

来源：集成电路应用, 2019, 36(06): 34-35.

DOI：10.19339/j.issn.1674-2583.2019.06.011

• 直流磁控溅射
• Al-Nd合金薄膜
• 真空退火
• 表面形貌
• 颗粒大小

为了研究退火温度对铝钕薄膜性能的影响规律,采用直流磁控溅射法在玻璃上制备了不同溅射功率、Al-0.5at%Nd和Al-2.5 at%Nd的合金薄膜,对薄膜样品分别进行230℃及300℃真空退火1 h。利用SEM、AFM对退火前后的AlNd薄膜的表面形貌、粗糙镀以及颗粒大小进行表征。结果表明:当退火温度达到300℃时,不同条件制备的薄膜表面均出现小丘,且溅射功率大小、掺杂钕(Nd)的浓度均能影响小丘密度。对于铝中掺杂0.5at和2.5%比例的钕在温度达到300℃时也不能抑制小丘的生长。

• 单位
  汕头超声显示器技术有限公司