NiCo2O4薄膜的制备及其磁电性能研究

作者：周国伟; 康鹏华

来源：稀有金属, 2022, 46(07): 975-981.

DOI：10.13373/j.cnki.cjrm.XY21030023

• 脉冲激光沉积
• NiCo2O4薄膜
• 金属性
• 室温亚铁磁
• 垂直磁各向异性

采用脉冲激光沉积(PLD)技术，在氧化镁(MgO(001))、钛酸锶(SrTiO3(001))和铝酸镁(MgAl2O4(001))3 种衬底上，外延生长钴酸镍(NiCo2O4)薄膜。采用原子力显微镜(AFM)和 X 射线衍射仪(XRD)对 NiCo2O4薄膜进行形貌表征和结构分析，测试结果表明 NiCo2O4薄膜具有平整的表面和优异的结晶度。采用综合物性测量系统(PPMS)测试 NiCo2O4薄膜的电输运及磁性能，通过对比发现在 MgO(001)和 SrTiO3(001)衬底上生长的NiCo2O4薄膜呈半导体特性，并且磁性较弱，而在MgAl2O4(001)衬底上生长的NiCo2O4薄膜具有金属性和室温亚铁磁性，并且表现出明显的垂直磁各向异性。综合分析表明，不同衬底上制备的 NiCo2O4薄膜受外延应变、沉积温度(Tg)及氧分压(pO2)的影响，会表现出差异较大的磁电特性。通过优化衬底的选择以及生长参数的调整，本文可以制备出具有垂直磁各向异性的室温亚铁磁金属 NiCo2O4薄膜，可用于微型自旋电子学器件的制备。

• 单位
  山西师范大学