下一代光刻技术

作者：仲冠丞

来源：科技与企业, 2015, (13): 210.

DOI：10.13751/j.cnki.kjyqy.2015.13.195

• 下一代光刻技术
• 纳米压印光刻技术
• 极紫外光刻技术
• 无掩模光刻技术
• 原子光刻技术
• 电子束光刻技术

本文从多方面对下一代光刻技术做了介绍和分析,重点描述了纳米压印光刻技术、极紫外光刻技术、无掩模光刻技术、原子光刻技术、电子束光刻技术等的原理、现状和优缺点,并展望了未来数十年的主流光刻技术。