锗抛光片表面清洗研究进展

作者：周铁军; 廖彬; 马金峰; 宋向荣

来源：科技风, 2021, (02): 179-180.

DOI：10.19392/j.cnki.1671-7341.202102084

• 锗片
• 湿法清洗
• 干法清洗

论述了锗晶片表面清洗的不同方法以及表面清洗的机理。锗晶片的表面清洗分为干法清洗和湿法清洗。湿法清洗一般采用氧化、剥离的清洗原理,即首先采用氧化性溶液将锗晶片表面进行氧化,然后再用一定的化学方法将晶片表面的氧化物去除,从而实现对晶片表面的清洗。干法清洗是采用气相化学法去除晶片表面污染物,主要包含热氧化法和等离子清洗法。

• 单位
  广东先导先进材料股份有限公司; 广东先导稀材股份有限公司