摘要
目的用电化学的方法探究化学镀钯拖缸现象背后的原因方法通过开路电位方法探测了化学镀钯的引发过程,利用线性扫描伏安法测量极化曲线。测量阳极极化曲线时,不加钯盐;测量阴极极化曲线时,不加次亚磷酸钠。分别求得次亚磷酸钠起始氧化的电位(E_(O))、钯离子起始的还原电位(E_(R))随温度变化的关系曲线,以及甘氨酸浓度对E_(O)和E_(R)的影响,并且用化学镀实验,对钯层厚度变化与甘氨酸浓度的关系进行研究。结果 发现第一次使用和多次使用的化学镀钯液,引发钯沉积的快慢存在差异即存在拖缸现象。在镀钯过程中,温度越高,镀液活性越强,越不容易出现拖缸现象,但同时稳定性也会下降。而电化学实验中发现,E_(O)随着温度升高而负移,E_(R)随着温度升高而正移,二者的差值|ΔE|总体随着温度升高而减小。ΔE可以反映镀液的稳定性和衡量化学镀钯引发的难易程度。ΔE < 0意味着镀液稳定,化学镀钯需要在催化剂表面引发。当|ΔE| ≤ 0.73V时,化学镀钯可以正常引发,而|ΔE| > 0.73V时,引发过程存在拖缸现象。甘氨酸的浓度可以影响ΔE。甘氨酸浓度接近10 g/L时拖缸现象不明显,无甘氨酸或者浓度大于20 g/L时,容易出现拖缸现象。结论 ΔE的值关乎化学镀钯液能否稳定以及是否会发生拖缸现象。
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