摘要
采用磁控溅射双靶共溅射方法,在玻璃表面成功制备了高催化活性的碳掺杂ZnO薄膜。通过X射线衍射仪、高倍透射电镜、X射线光电子能谱仪等表征了碳掺杂ZnO薄膜,并在可见光催化氮合成氨实验中评价了薄膜的催化剂性能。结果表明碳掺杂的ZnO薄膜中存在碳量子点,尺寸为4nm,晶面间距0.21nm,薄膜可以吸收可见光。同时ZnO晶格中的碳提高了ZnO导带的位置,增强了激发电子的还原能力。当碳掺杂量为1.03%时,氨氮产量为5.15×10–4mol/(h·cm2)。利用反胶束蚀刻法又成功地在玻璃表面蚀刻出了微米坑,坑口径为0.5~2μm,坑深为100~500nm。与平面玻璃表面上的薄膜比较,在光催化氮合成氨实验中微米坑玻璃表面上薄膜的氨氮产量提高了约1.4倍,膜基结合力提高了2倍多。结合薄膜的能带结构图讨论了碳掺杂ZnO薄膜的光催化机理。
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