低能大流强氢离子辐照对钨的刻蚀行为

作者：玄京凡; 范红玉^*; 白樱; 胡瑞航; 李昕洋; 陶文辰; 倪维元^*; 牛金海

来源：材料研究学报, 2020, 34(09): 659-664.

• 金属学
• 多晶钨
• 氢离子辐照
• 刻蚀

在聚变相关的钨(W)偏滤器辐照下,研究了低能大流强氢(H)离子辐照对多晶钨材料的刻蚀行为。使用扫描电子显微镜(SEM)、导电原子力显微镜和基于SEM的电子背散射衍射等手段研究了大流强(～1022ions/m2·s)、剂量为1.0×1026ions/m2、能量为5～200 eV的氢离子辐照对多晶W材料表面刻蚀行为的影响。结果表明,随着H离子辐照能量的增加W的溅射率迅速提高,W表面发生刻蚀后产生条纹状结构,而且同一晶粒上条纹的方向具有一致性,条纹两侧的缺陷分布明显不同,意味着W表面的刻蚀优先沿某一特定晶面方向进行。

• 单位
  大连民族大学