铜钨触头电烧蚀机理探讨

作者:周芳; 曹伟产; 陈伟博; 周扬
来源:电工材料, 2018, (05): 3-9.
DOI:10.16786/j.cnki.1671-8887.eem.2018.05.001

摘要

通过扫描电镜、三维显微镜等设备分析CuW触头开断后的烧蚀形貌,讨论了CuW触头通电时烧蚀机理。分析结果表明,CuW触头在开断烧蚀时,烧蚀位置优先出现在Cu聚集区域。而裂纹的形成由触头表面的电弧高温侵蚀引起,而微裂纹在反复电弧烧蚀作用下将成为触头失效的根源。