T91钢表面复合电沉积Ni/CrAl镀层的工艺研究

作者：刘光明; 刘德强; 汪元奎; 任永峰; 邱佳红; 田继红

来源：表面技术, 2012, 41(01): 61-63.

DOI：10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2012.01.003

• 复合电沉积
• Ni/CrAl
• 镀层

采用复合电沉积法在T91钢表面制备Ni/CrAl镀层,研究了CrAl微粒在镀层中的含量与搅拌强度、镀液pH值、电流密度及温度的关系,确定最佳工艺参数为:电流密度2.5～4.5A/dm2,pH值4～4.5,温度30℃。采用该工艺制备了较高CrAl含量的复合镀层,并对工艺参数影响复合电沉积的机理进行了简单探讨。

• 单位
  材料科学与工程学院; 宝鸡石油钢管有限责任公司; 南昌航空大学; 东方锅炉集团有限公司材料研究所