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摘要
由于A1-N键具有很强的共价键特性,CrAlN涂层具有很强的陶瓷性-高的硬度和热稳定性,但同时也具有很强脆性,容易发生过早断裂失效而限制了其性能的充分发挥。我们研究发现,在较高温度（550℃）制备的CrAlN涂层具有整齐排列的、结晶完整的柱状晶结构,晶粒平均尺寸大约为30nm。沉积过程中形成较大的残余压应力钉扎在晶界处。同时,较大应变能促使涂层沿应变能最低的（111）面取向生长;而（111）面具有最大的表面能,促使晶粒间倾向形成小角度晶界。CrAlN涂层的主要变形方式为晶界滑移、转动和细碎化。压应力和小角度都提高了晶界滑移的阻力,同时促进了硬度和韧性的提高。
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