集成电路制造工艺中的化学原理与应用

作者：杨高琦

来源：集成电路应用, 2020, 37(05): 36-39.

DOI：10.19339/j.issn.1674-2583.2020.05.012

• 集成电路制造
• 化学反应
• 光刻
• 刻蚀
• 氧化
• 薄膜沉积
• 工艺

基于芯片制备工艺中所应用的化学反应过程,阐述光刻、刻蚀、氧化、薄膜沉积工艺中所涉及的化学反应与原理,对理解半导体芯片制造中的化学过程具有重要意义。

• 单位
  湖北大学