ALD制备氧化铝及其钝化性研究

作者：石惠君; 倪玉凤; 张博; 陈丹; 王冬冬

来源：中国新技术新产品, 2023, (20): 55-57.

DOI：10.13612/j.cnki.cntp.2023.20.032

• 氧化铝
• 原子层沉积
• TOPCon电池
• 钝化性
• 电性能

该文通过原子层沉积(ALD)法制备TOPCon(隧穿氧化钝化电池)太阳电池中的Al2O3钝化膜，研究ALD沉积工艺参数(反应循环次数循环数、加热温度和三甲基铝(TMA)流量)对硅片少子寿命的影响。通过比较氧化铝薄膜少子寿命差异，得出最佳氧化铝薄膜制备工艺参数，并在该条件下制备了TOPCon太阳电池。结果表明，在反应循环次数65cycle、加热温度220℃和TMA流量30sccm的条件下制备的Al2O3薄膜钝化性最优，该工艺参数下制备的TOPCon电池效率最高，达到了24.10%。

• 单位
  青海黄河上游水电开发有限责任公司