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摘要
采用我国2006—2017年31个省级(除港、澳、台)面板数据,构建动态面板回归模型和动态面板门限回归模型,对政府研发投入的"激励效应"以其在专利保护强度异质性条件下的动态变化进行实证检验。研究结果表明,政府研发投入显著促进了区域创新水平的提升,且两者之间的关系存在基于知识产权保护强度异质性的双重门限效应。具体来说,当知识产权保护强度过低或过高时,都会出现"策略性"创新行为,只有适度的知识产权保护水平,才有助于发挥政府研发投入对区域创新水平的"激励效应";且进一步研究发现,我国大部分地区正处于知识产权保护中强度区间范围内。最后基于以上实证研究结果,从知识产权保护、政府补助等角度提出政策建议。
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