PDMS多层次蘑菇形微结构的制作

作者：单晗; 刘军山^*

来源：微纳电子技术, 2020, 57(05): 395-408.

DOI：10.13250/j.cnki.wndz.2020.05.010

• 聚二甲基硅氧烷(PDMS)
• 多层次
• 蘑菇形微结构
• 牺牲层
• SU-8
• 超疏水

提出了一种基于光刻胶牺牲层技术的用于制作多层次SU-8模具的新方法,并进一步采用浇注成型的方法制作了聚二甲基硅氧烷(PDMS)多层次蘑菇形微结构。在多层次SU-8模具的制作过程中,使用了正性光刻胶BP212作为牺牲层,并采用超声辅助显影的方法使显影的时间大大缩短。通过对多层次SU-8模具预处理,有效减小了多层次SU-8模具与PDMS的结合力,从而提高了PDMS脱模的成功率。对制作的PDMS多层次蘑菇形微结构和PDMS单层次微柱结构进行了接触角测试。结果表明,PDMS多层次蘑菇形微结构的接触角为150.93°±1.6°,PDMS单层次微柱结构的接触角为139.19°±0.1°。由此可知PDMS多层次蘑菇形微结构具有优异的超疏水性能。

• 单位
  大连理工大学