W掺杂VO2薄膜的椭圆偏振光谱表征

作者：王盼盼; 张云龙; 吴岭南; 曹韫真; 宋力昕; 章俞之

来源：硅酸盐学报, 2016, 44(03): 464-468.

DOI：10.14062/j.issn.0454-5648.2016.03.19

• 氧化钒薄膜
• 相变
• 椭圆偏振光谱
• 光学常数

利用MSP-3200三靶共溅射镀膜机,射频磁控溅射在石英基底上反应溅射制备单斜相(M相)VO2薄膜及W掺杂单斜相(M相)VO2薄膜。利用WVASE32椭圆偏振仪及变温附件在3502 500 nm波长范围内对相变前后的VO2薄膜及W掺杂VO2薄膜进行光谱测试,运用Lorentz谐振子色散模型结合有效介质近似模型对椭偏参数进行拟合。结果表明:W掺杂的VO2薄膜与纯相的VO2薄膜相比,光学常数n、k随波长的变化趋势相同,但W掺杂后的VO2薄膜的折射率n小于纯相VO2薄膜的折射率,而消光系数k值大于纯相VO2薄膜的k值。W的掺入增加了薄膜的致密度,同时增加了薄膜内部自由载流子的浓度。

• 单位
  中国科学院; 中国科学院上海硅酸盐研究所