碳离子治疗中分野照射技术的MonteCarlo模拟

作者：黄齐艳; 刘新国; 戴中颖; 贺鹏博; 申国盛; 马圆圆; 闫渊林; 付廷岩; 李强

来源：原子核物理评论, 2015, 32(01): 115-120.

• 碳离子治疗
• 分野照射
• Monte Carlo
• Gate/Geant4
• 横向剂量分布

为阐述分野照射治疗方式应用于中国科学院近代物理研究所(IMP)肿瘤重离子临床治疗试验研究的理论基础,利用Monte Carlo(MC)软件包Gate/Geant4模拟计算了碳离子束分野照射分野衔接处的横向剂量分布,得到了患者摆位误差±1.0 mm范围内的横向剂量分布和分野衔接处中心剂量随分野间距的变化关系,计算了分野间距5.0 mm的横向剂量分布。将分野间距5.0 mm的分野照射与整野照射的MC结果进行比较,发现:在靶区范围内两者模拟的剂量偏差在6.8%以内,符合程度较好,并提出了在患者定位精确度较高的情况下(即患者治疗体位摆位误差在±1.0 mm范围)解决分野衔接处剂量热点问题的可行方法,从而较大幅度地提高了分野照射时靶区范围内的剂量均匀性。

• 单位
  中国科学院近代物理研究所; 中国科学院大学