摘要
为了研究以聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)为固态电解质导电桥纳米开关的特性,文中采用FR-4覆铜板(Cu)作为活泼电极,Al作为惰性电极,PMMA作为固态电解质,研究了Cu/PMMA/Al导电桥纳米开关的制备工艺和性能.研究结果表明:旋转涂胶形成PMMA薄膜的厚度对Cu/PMMA/Al开关的性能起决定性因素,最大开关转换次数随旋转转速的增大而增大.电化学抛光时间和氧化时间对Cu/PMMA/Al纳米开关性能的影响相对较弱.电化学抛光时间为30s和60s时,纳米开关的开关循环次数总体上比电化学抛光时间为90s时的多.氧化时间对Cu/PMMA/Al纳米开关性能的影响没有明显的规律性.FR-4覆铜板用磷酸电化学抛光30s,在180℃的条件下氧化7min,以4 000r·min-1旋转速率涂胶后,Cu/PMMA/Al导电桥纳米开关可实现开关305次;铜表面电化学抛光处理Cu/PMMA/Al纳米开关的开关比(高阻态/低阻态)为105,高阻态与低阻态时的电阻基本上不随时间变化.
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