超薄磁盘保护膜的制备技术

作者：李艳琴; 丁万昱; 邓新绿; 董闯; 徐军; 陈小猛

来源：真空, 2005, 42(5): 17-21.

DOI：10.3969/j.issn.1002-0322.2005.05.005

• 类金刚石
• 氮化硅
• 磁盘保护膜

类金刚石薄膜和氮化硅薄膜都是性能很好的绝缘材料,可以用于对磁盘进行保护,在本文中主要讨论了它们各自的制备方法.随着巨磁阻读写磁头(giant magneto-resistive heads)技术的引入,磁盘的存储密度以每年100%的速度在增加,这就要求磁盘保护膜的厚度要尽量的小,所以对制备方法有一定的要求.对类金刚石磁盘保护膜,可以使用等离子体磁控溅射沉积、磁过滤阴极弧沉积、等离子体化学气相沉积来制备;对氮化硅磁盘保护膜,可以使用射频反应溅射沉积来制备.

• 单位
  大连理工大学