紫外消毒对管网多相界面中抗性基因的影响

作者:张明露; 徐梦瑶; 王礼; 王双玲; 王永京; 白淼; 张灿
来源:给水排水, 2018, 54(05): 42-46.
DOI:10.13789/j.cnki.wwe1964.2018.0102

摘要

抗生素抗性基因(Antibiotic Resistance Genes,ARGs)在饮用水系统各个环节中广泛分布,国内外研究大多集中在ARGs的来源和传播途径两方面,对于ARGs去除方面关注较少。采用CDC反应器模拟给水管网系统,对采集自水相(进水和出水)、生物膜相和颗粒物相的样品进行低压紫外线(Low Pressure-Ultraviolet,LP-UV)辐照,采用实时荧光定量PCR确定不同LP-UV辐照剂量对5种ARGs(ermA、ermB、ampC、aphA2和sulⅡ)的去除效果。多相界面中的5种ARGs经LP-UV辐照后相对浓度均有不同程度的降低。当LP-UV辐照剂量达到40mJ/cm2时,多相界面中的5种ARGs去除率分别为1.835.59log(ermA)、0.194.32log(ermB)、1.222.14log(ampC)、1.222.98log(aphA2)和9.5111.66log(sulⅡ)。结果表明LP-UV辐照对模拟给水管网系统的水相(进水和出水)、生物膜相和颗粒物相样品中5种ARGs污染均能起到有效的控制作用。

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