铈掺杂对CVD金刚石薄膜结构的影响

作者：刘学杰^*; 诸葛晨昱; 王宇晨

来源：内蒙古科技大学学报, 2020, 39(03): 279-284.

DOI：10.16559/j.cnki.2095-2295.2020.03.016

• Ce掺杂金刚石薄膜
• 微波等离子气相沉积
• 微结构
• 择优取向
• 结晶质量

研究中以醋酸铈为前驱体,采用微波等离子化学气相沉积(MPCVD)工艺制备了Ce掺杂的CVD金刚石薄膜.采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和拉曼检测,系统地研究了Ce掺杂对金刚石膜的形貌和微观结构的影响.扫描电镜(SEM)检测结果揭示了Ce掺杂可以使薄膜表面生长更多的微米金刚石方晶.X射线衍射(XRD)检测结果表明:Ce的加入可以改变金刚石薄膜中晶粒的择优取向.拉曼(Raman)检测结果显示:当Ce掺杂的通量为0,30,45,60 sccm时,对薄膜中金刚石峰的半高宽值分别为10,18,13,9.研究结果表明:适当的Ce掺杂可以提高薄膜中金刚石的结晶质量.

• 单位
  内蒙古科技大学